半導(dǎo)體制造對(duì)潔凈度和精度的要求近乎苛刻，而全氟聚醚脂憑借其獨(dú)特的性能，成為光刻機(jī)、真空設(shè)備等核心部件的“隱形功臣”。

半導(dǎo)體制造的挑戰(zhàn)

納米級(jí)精度需求：塵埃或潤(rùn)滑劑揮發(fā)可能污染晶圓。

真空環(huán)境兼容性：傳統(tǒng)潤(rùn)滑劑易揮發(fā)導(dǎo)致設(shè)備故障。

PFPE在關(guān)鍵設(shè)備中的應(yīng)用

光刻機(jī)：透鏡驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)、真空機(jī)械臂的潤(rùn)滑。

刻蝕與沉積設(shè)備：耐等離子體腐蝕的密封材料。

真空泵：長(zhǎng)期運(yùn)行下的穩(wěn)定性保障。

技術(shù)突破案例

ASML EUV光刻機(jī)：使用PFPE潤(rùn)滑脂實(shí)現(xiàn)0.33 NA鏡頭的精準(zhǔn)控制。

嘉樂(lè)德油邦手的定制化PFPE解決方案。

結(jié)論

PFPE潤(rùn)滑脂是半導(dǎo)體行業(yè)邁向更高制程節(jié)點(diǎn)的基石，其性能優(yōu)化直接關(guān)系到摩爾定律的延續(xù)。